等离子体处理室中的同步且缩短的主从式射频脉冲

摘要

用于处理衬底的等离子体处理装置和技术，其包括对第一RF信号和延时且缩短的第二RF信号的同步RF脉冲的使用。第一RF信号可以是主等离子体产生RF信号而第二RF信号可以是RF偏置信号，反之亦然。作为选择地或另外地，第一RF信号可以是高频RF信号而第二RF信号可以是低频RF信号。第一RF信号或者第二RF信号可作为主信号，同时另一个作为从信号。作为选择地，可采用外部电路作为主器件来控制第一RF信号和第二RF信号二者。跟踪和保持技术和电路被提供来确保用于工艺控制和其它目的的精确测量。

主权项

一种用于在等离子体处理室中在衬底处理期间执行在第一RF信号和第二RF信号之间的同步的射频(RF)脉冲的方法，其包括：使所述第一RF信号从低到高渡越；然后等待经过所述第一RF信号的所述从低到高的所述渡越之后的延时；然后使所述第二RF信号从低到高渡越；然后使所述第二RF信号从高到低渡越，其中所述第二RF信号在等离子体演变到余辉阶段之前从高到低渡越；以及然后使所述第一RF信号从高到低渡越。