| 发明名称 | 黄光室系统 | ||
| 摘要 | 在将涂敷装置、曝光装置、显影装置等一起配置在较大的黄光室内的情况下，与方法变更相伴的布局的变更变得困难，并且配置面积等的效率化较为困难。本发明提供一种黄光室系统，该黄光室系统具有：多个可搬运的单位处理装置(50)，其具有规格化的相同的外形，且内含用于遮挡向形成于工件上的感光材料照射的感光光线的黄光室；搬运容器(11、12)，其本身形成为黄光室，并用于在单位处理装置之间搬运所述工件；以及遮光性的连结构造，其形成在设于单位处理装置(50)的前室(80)的上部的对接口(56)，用于连结单位处理装置和搬运装置。 | ||
| 申请公布号 | CN103975416B | 申请公布日期 | 2016.05.18 |
| 申请号 | CN201280060033.4 | 申请日期 | 2012.10.03 |
| 申请人 | 独立行政法人产业技术综合研究所 | 发明人 | 原史朗 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;B65G49/07(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种黄光室系统，其中，该黄光室系统具有：多个可搬运的单位处理装置，其具有规格化的相同的外形，且内含用于遮挡向形成于工件上的感光材料照射的感光光线的黄光室；搬运容器，其本身形成为黄光室，并用于在所述单位处理装置之间搬运所述工件；以及遮光性的连结构造，其连结所述单位处理装置和所述搬运容器。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||