发明名称 一种珍珠珠层厚度的无损检测方法
摘要 本发明公开了一种珍珠珠层厚度的无损检测方法,包括以下步骤:将标准球体设置在X射线放射源和成像平面之间,使标准球体的球心位于参考直线上;利用X射线放射源照射标准球体,从而在成像平面上得到一标准球体图像,测量标准球体图像的半径R<sub>0</sub>,计算比例系数μ=r<sub>0</sub>/R<sub>0</sub>,其中,r<sub>0</sub>为标准球体的半径;将待测珍珠设置在X射线放射源和成像设备之间,使待测珍珠的球心位于参考直线上;利用X射线放射源照射待测珍珠,从而在成像平面上得到待测珍珠图像,待测珍珠图像包括珠核图像和环状的珠层图像,测量待测珍珠图像的半径R<sub>1</sub>以及珠核图像的半径R<sub>2</sub>,待测珍珠的半径为r<sub>1</sub>=μR<sub>1</sub>,珠核的半径为r<sub>2</sub>=μR<sub>2</sub>,珠层厚度为r=r<sub>1</sub>-r<sub>2</sub>。基于本发明的计算过程中的误差可控,测量结果更为准确。
申请公布号 CN103528550B 申请公布日期 2016.05.18
申请号 CN201310477690.5 申请日期 2013.10.14
申请人 广西壮族自治区质量技术监督局珍珠产品质量监督检验站 发明人 何锦锋;曾明;廖斌;张清
分类号 G01B15/02(2006.01)I 主分类号 G01B15/02(2006.01)I
代理机构 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人 张清;贺持缓
主权项 一种珍珠珠层厚度的无损检测方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、成像设备提供一成像平面,在X射线放射源和所述成像平面之间规划一平行于所述成像平面的参考直线,将标准球体设置在所述X射线放射源和所述成像平面之间,并且使所述标准球体的球心位于所述参考直线上;步骤二、利用所述X射线放射源照射所述标准球体,从而在所述成像平面上得到一标准球体图像,测量所述标准球体图像的半径R<sub>0</sub>,计算比例系数μ=r<sub>0</sub>/R<sub>0</sub>,其中,r<sub>0</sub>为所述标准球体的半径;步骤三、将待测珍珠设置在X射线放射源和成像设备之间,并且使所述待测珍珠的球心也位于所述参考直线上,所述待测珍珠包括珠核以及环状的珠层,所述珠核位于所述珠层的中心;步骤四、利用所述X射线放射源照射所述待测珍珠,从而在所述成像平面上得到待测珍珠图像,所述待测珍珠图像包括珠核图像和环状的珠层图像,测量所述待测珍珠图像的半径R<sub>1</sub>以及所述珠核图像的半径R<sub>2</sub>,所述待测珍珠的半径为r<sub>1</sub>=μR<sub>1</sub>,所述珠核的半径为r<sub>2</sub>=μR<sub>2</sub>,则所述珠层厚度为r=r<sub>1</sub>‑r<sub>2</sub>;所述步骤一中,所述标准球体的球心位于所述X射线放射源到所述成像平面的垂线段上;所述步骤三中,所述待测珍珠的球心也位于所述X射线放射源到所述成像平面的垂线段上;所述X射线放射源到所述参考直线的距离a≥20r<sub>0</sub>。
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