曝光装置、曝光方法

摘要

本发明公开一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向上直线移动的期间，由多点AF系统(90)检测在X轴方向以既定间隔设定的多个检测点的晶片(W)表面的面位置信息，由沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL2₁～AL2₄)分别检测晶片上彼此不同位置的标记，由周边曝光系统(51)使晶片的缺照射的一部分曝光。据此，与无关系地进行标记检测动作、面位置信息(焦点信息)的检测动作、以及周边曝光动作的场合相比较，能提升生产率。

主权项

一种曝光装置，通过投影光学系统与液体用能量束使物体曝光，其具备：分别保持物体的第1、第2移动体；局部液浸装置，包含在与上述第1、第2移动体对向配置的下面侧具有回收口的嘴单元，通过上述嘴单元将液体供应至上述投影光学系统下，且从通过上述供应的液体而形成于上述投影光学系统下的液浸区域通过上述回收口回收液体；底盘，其配置上述第1、第2移动体的表面配置成与上述投影光学系统的光轴正交且与包含彼此正交的第1、第2方向的既定平面大致平行；驱动系统，包含于上述底盘设有定子且于上述第1、第2移动体设有可动子的平面马达，将上述第1、第2移动体分别从通过上述投影光学系统与上述液浸区域的液体进行上述物体的曝光的曝光位置与进行分别保持于上述第1、第2移动体的物体的更换的更换位置的一方移动至另一方，上述更换位置在上述第1方向与上述曝光位置不同；测量系统，测量上述第1、第2移动体的位置信息；以及控制装置，根据以上述测量系统测量的位置信息控制上述平面马达对上述第1、第2移动体的驱动，以对与上述投影光学系统对向配置的上述第1、第2移动体中的一方使上述第1、第2移动体中的另一方接近的方式相对移动，且使已接近的上述第1、第2移动体相对上述嘴单元移动以取代上述一方移动体而成为上述另一方移动体与上述投影光学系统对向配置；通过已接近的上述第1、第2移动体相对上述嘴单元的移动，上述液浸区域一边被维持于上述投影光学系统下、一边从上述一方移动体移动至另一方移动体；上述第1移动体在上述第2方向从一侧被连接缆线，且上述第2移动体在上述第2方向从另一侧被连接缆线；上述控制装置，控制上述平面马达对上述第1、第2移动体的驱动，以使上述第1移动体与上述第2移动体通过彼此不同的返回路径从上述曝光位置移动至上述更换位置；上述第1移动体通过相对上述曝光位置位于上述第2方向的一侧的返回路径，上述第2移动体通过相对上述曝光位置位于上述第2方向的另一侧的返回路径。