光刻组合物和光刻方法

摘要

提供了用于光刻胶组合物上的顶涂层组合物。该组合物可特定地应用于浸渍光刻过程。

主权项

适于在光刻胶层上形成顶涂层的组合物，该组合物包含：可溶于碱性水溶液的基质聚合物；可溶于碱性水溶液并包含以下通式(Ⅰ)的单体的聚合单元的第一附加聚合物：其中，R₁是氢或C₁‑C₆的烷基或氟代烷基，R₂是C₃‑C₈的支链亚烷基，R₃是C₁‑C₄的氟代烷基；并且其中组合物中第一附加聚合物的量少于基质聚合物，且第一附加聚合物的表面能低于基质聚合物的表面能；其中在干燥状态下，顶涂层组合物层的水后退接触角为75‑85°。