包含将沉积腔室与处理腔室分开的隔离区域的处理系统

摘要

本文描述一种用于在处理系统中处理基板的设备和方法，所述处理系统包含沉积腔室、处理腔室以及隔离区域，所述隔离区域将所述沉积腔室与所述处理腔室分开。所述沉积腔室将膜沉积在基板上。所述处理腔室从所述沉积腔室接收所述基板，并且利用膜特性更改装置来更改沉积在所述沉积腔室中的所述膜。提供了根据以上实施例以及其他实施例的处理系统和方法。

主权项

一种处理系统，所述处理系统包括：沉积腔室，其中，所述沉积腔室被配置成将膜沉积在基板上；处理腔室，其中，所述处理腔室被布置成从所述沉积腔室接收所述基板，并且传送所述基板远离所述沉积腔室，所述处理腔室进一步包括：膜特性更改装置，所述膜特性更改装置可操作以处理设置在所述处理腔室中的所述基板，从而更改在所述沉积腔室中所沉积的膜的特性；以及至少一个隔离区域，其中，所述至少一个隔离区域被配置成将所述沉积腔室与所述处理腔室分开。