用增强的铜离子化PVD进行铜籽晶悬突再溅射

摘要

提供一种在图案化的基板上沉积金属的方法和设备。在具有第一能量的物理气相沉积工艺中形成金属层。利用第二能量，在金属层上进行第二物理气相沉积工艺，其中沉积与脆性塑性表面改性工艺相互作用以在基板上形成基本上共形的金属层。

主权项

一种处理在场区域中形成有开口的基板的方法，所述方法包括：在基板上沉积金属层以形成具有厚区域和薄区域的沉积的金属层；对所述沉积的金属层进行脆性表面改性处理，其中，所述脆性表面改性处理包括：用金属离子轰击沉积的金属层以从开口的底部喷射沉积的金属层的颗粒；以及将喷射的颗粒在侧壁上再沉积；和对所述沉积的金属层进行塑性表面改性处理，其中，所述塑性表面改性处理包括：用离子撞击沉积的金属层以沿着侧壁将所述沉积的金属层的厚区域的表面的一部分推到所述沉积的金属层的薄区域从而在基板上方形成基本上共形的层，其中所述部分从来没有完全与所述表面脱离键合，并且其中所述部分从来没有从所述表面物理分离。