一种用于MOCVD反应器的晶片载盘及MOCVD反应器

摘要

本发明公开了一种用于MOCVD反应器的晶片载盘及MOCVD反应器。为了最大限度的扩大晶片载盘表面均匀温度场的范围，所述用于MOCVD反应器的晶片载盘包括晶片载盘本体，所述晶片载盘本体的上表面开有用于放置晶片的凹槽，该晶片载盘本体的下表面周缘向下延伸形成环形凸起，使整个晶片载盘呈倒桶状。所述MOCVD反应器具有上述带环形凸起的晶片载盘及相配套的加热器，所述加热器分为内、中、外三部分，并且加热器内圈、外圈呈筒状竖向布置，中圈呈Ω形水平布置。本发明提高了热能量利用效率，并且使加热装置与反应物分开，从而能够更好的保护加热装置，同时，晶片载盘表面温度一致性的区域扩大，从而提高了单批次产量。

主权项

一种MOCVD反应器，包括装在旋转轴（110）上的晶片载盘（113），位于晶片载盘（113）上方的气体分布装置（102），位于晶片载盘（113）下方的加热装置；其特征在于，所述晶片载盘（113）包括晶片载盘本体，所述晶片载盘本体的上表面开有用于放置晶片（105）的凹槽，该晶片载盘本体的下表面周缘向下延伸形成环形凸起（116），使整个晶片载盘（113）呈倒桶状；所述晶片载盘（113）由石墨压制烧结而成；所述加热装置为设置在旋转轴（110）与晶片载盘（113）的环形凸起（116）之间的呈筒状竖向布置的内圈加热体（103）、呈Ω形水平布置的中圈加热体（104）和呈筒状竖向布置的外圈加热体（107）。