发明名称 ETCHING METHOD AND ETCHING SYSTEM
摘要 에칭액을 1유체 노즐(20)로부터 분사하여 에칭 대상물 1의 에칭 대상면에 부착시킴으로써 에칭 대상면을 에칭하는 제1 에칭 공정과, 에칭액과 기체를 혼합하여 2유체 노즐(30)로부터 분사하고, 제1 에칭 공정에서 에칭된 에칭 대상면에 에칭액을 부착시킴으로써 에칭 대상면을 더욱 에칭하는 제2 에칭 공정을 구비한다. 제2 에칭 공정에서는 제1 에칭 공정보다도 미소 액적인 에칭액을, 제1 에칭 공정보다도 강한 타력으로 에칭 대상면에 부착시킨다.
申请公布号 KR101622211(B1) 申请公布日期 2016.05.18
申请号 KR20147009709 申请日期 2013.04.11
申请人 가부시키가이샤 케미토론 发明人 아키야마 마사노리;마츠오 타츠히코
分类号 B05B7/00;C23F1/02 主分类号 B05B7/00
代理机构 代理人
主权项
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