发明名称 |
一种肖特基二极管 |
摘要 |
本发明公开了一种肖特基二极管,属于半导体技术领域,包括:衬底;外延层,位于所述衬底之上;终端结构,位于所述外延层内,且绕所述外延层上表面一周设置,所述终端结构限定区域内的外延层上表面为凹凸结构;势垒区,位于所述终端结构限定区域内的外延层之上,且与所述终端结构电连接,所述势垒区与所述外延层的接触面为凹凸结构;正面电极,位于所述势垒区之上;背面电极,位于所述衬底之下。本发明所述的肖特基二极管的势垒区与外延层的接触面为凹凸结构,大大增加了势垒区的面积,使得单位面积硅层上的势垒区面积得到增加,电流导通方向是多个方向,降低了肖特基二极管的正向导通压降。 |
申请公布号 |
CN105590966A |
申请公布日期 |
2016.05.18 |
申请号 |
CN201410573144.6 |
申请日期 |
2014.10.23 |
申请人 |
无锡华润华晶微电子有限公司 |
发明人 |
吴志伟;黄璇;孙海刚 |
分类号 |
H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/872(2006.01)I |
代理机构 |
北京品源专利代理有限公司 11332 |
代理人 |
路凯;胡彬 |
主权项 |
一种肖特基二极管,其特征在于,包括:衬底;外延层,位于所述衬底之上;终端结构,位于所述外延层内,且绕所述外延层上表面一周设置,所述终端结构限定区域内的外延层上表面为凹凸结构;势垒区,位于所述终端结构限定区域内的外延层之上,且与所述终端结构电连接,所述势垒区与所述外延层的接触面为凹凸结构;正面电极,位于所述势垒区之上;背面电极,位于所述衬底之下。 |
地址 |
214135 江苏省无锡市新区太湖国际科技园菱湖大道180号-22 |