发明名称 一种肖特基二极管
摘要 本发明公开了一种肖特基二极管,属于半导体技术领域,包括:衬底;外延层,位于所述衬底之上;终端结构,位于所述外延层内,且绕所述外延层上表面一周设置,所述终端结构限定区域内的外延层上表面为凹凸结构;势垒区,位于所述终端结构限定区域内的外延层之上,且与所述终端结构电连接,所述势垒区与所述外延层的接触面为凹凸结构;正面电极,位于所述势垒区之上;背面电极,位于所述衬底之下。本发明所述的肖特基二极管的势垒区与外延层的接触面为凹凸结构,大大增加了势垒区的面积,使得单位面积硅层上的势垒区面积得到增加,电流导通方向是多个方向,降低了肖特基二极管的正向导通压降。
申请公布号 CN105590966A 申请公布日期 2016.05.18
申请号 CN201410573144.6 申请日期 2014.10.23
申请人 无锡华润华晶微电子有限公司 发明人 吴志伟;黄璇;孙海刚
分类号 H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/872(2006.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 路凯;胡彬
主权项 一种肖特基二极管,其特征在于,包括:衬底;外延层,位于所述衬底之上;终端结构,位于所述外延层内,且绕所述外延层上表面一周设置,所述终端结构限定区域内的外延层上表面为凹凸结构;势垒区,位于所述终端结构限定区域内的外延层之上,且与所述终端结构电连接,所述势垒区与所述外延层的接触面为凹凸结构;正面电极,位于所述势垒区之上;背面电极,位于所述衬底之下。
地址 214135 江苏省无锡市新区太湖国际科技园菱湖大道180号-22