一种用于硅片表面制样前的表面腐蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种用于硅片表面制样前的表面腐蚀装置。该装置包括腐蚀腔体，该腐蚀腔体分别连接有真空泵、氮气源、HF容器、排气系统；其中氮气源经湿度控制器连接到该腐蚀腔体的氮气入口；HF容器经进气管路连接氮气源，经出气管路连接到腐蚀腔体的HF气体入口。本实用新型利用抽真空和加湿技术，将本来环境的湿度影响去除，控制腔体内气体的湿度，不管洁净间内湿度如何，腔体内情况必然不受影响而且可控制，硅片表面的腐蚀情况相对稳定，有利于下一步用液滴对硅片疏水表面的扫描和金属杂质的收集。

主权项

一种用于硅片表面制样前的表面腐蚀装置，其特征在于，该装置包括腐蚀腔体，该腐蚀腔体分别连接有真空泵、氮气源、HF容器、排气系统；其中氮气源经湿度控制器连接到该腐蚀腔体的氮气入口；HF容器经进气管路连接氮气源，经出气管路连接到腐蚀腔体的HF气体入口。