| 发明名称 | 基板处理方法及基板处理装置和记忆基板处理程式之电脑可读取之记忆媒体 | ||
| 摘要 | ，已蚀刻处理的基板，系以聚合物去除液进行洗净。在本发明中，系提供一种可使洗净效果比以往更提升的基板处理。 在本发明中，系在以聚合物去除液来洗净已蚀刻处理之基板(3)的基板处理装置(1)(基板处理方法、记忆有基板处理程式之电脑可读取之记忆媒体)中，在以聚合物去除液来洗净处理前述基板(3)之前，对前述基板(3)供给异丙醇蒸汽、水蒸汽、纯水及异丙醇、氨水、氨水及异丙醇之任一。 | ||
| 申请公布号 | TW201618201 | 申请公布日期 | 2016.05.16 |
| 申请号 | TW104122932 | 申请日期 | 2015.07.15 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 冈村尚幸;小佐井一树;寺冈一大;上村史洋 |
| 分类号 | H01L21/64(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/64(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
| 主权项 | 一种基板处理方法，系以聚合物去除液来洗净已蚀刻处理的基板，该基板处理方法，其特征系，在以聚合物去除液来洗净处理前述基板之前，对前述基板供给异丙醇蒸汽或水蒸汽。 | ||
| 地址 | 日本 | ||