| 发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 明之课题乃于载置台上载放被处理基板而藉由处理气体进行基板处理之际，可进而确保处理均一性。 | ||
| 申请公布号 | TW201618211 | 申请公布日期 | 2016.05.16 |
| 申请号 | TW104123635 | 申请日期 | 2015.07.22 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 浅川雄二;绿川洋平;户田聪;高桥宏幸 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01);H01L21/687(2006.01) | 主分类号 | H01L21/67(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 林秋琴;陈彦希;何爱文 | |
| 主权项 | 一种基板处理装置，系于真空雰围下以处理气体对被处理基板施以既定处理者；具备有：腔室，系保持于真空雰围，收容被处理基板；基板载置台，系于该腔室内载置被处理基板；气体导入构件，对该腔室内导入包含处理气体之气体；隔壁构件，设置为可于该腔室内进行升降，用以在包含该基板载置台上方之被处理基板的区域处形成规定处理空间之隔壁；以及升降机构，系使得该隔壁构件进行升降。 | ||
| 地址 | 日本 | ||