投影露光装置上で光学的対称性を測定する装置及び方法

摘要

マイクロリソグラフィー投影露光装置(10)上で光学的対称性を測定する方法を提供する。この方法は、少なくとも１つの測定構造(60; 66)を投影露光装置のビーム経路(32)中に配置するステップを含み、この測定構造は、ピンホール付き遮光板(62)、及びこのピンホール付き遮光板の開口(63)内に配置された回折格子(64)を具えている。さらに、この方法は、回折格子(64)において発生する回折放射が、投影露光装置の少なくとも投射レンズ(22)と相互作用した後の強度を測定するステップを含む。