发明名称 TRANSPORT SYSTEM FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE
摘要 타겟 혼합물을 EUV 광을 방출하는 플라즈마로 변환함으로써 생성되는 잔해(debris)와 결합하는 자유 라디칼은 도관의 제1 단부에 형성된 제1 개구부에서 수신되고, 상기 도관은 상기 도관은 상기 자유 라디칼을 통과시키는 재료를 포함하며, 상기 도관은 상기 제1 개구부로부터 멀어지는 방향으로 연장되고 적어도 하나의 다른 개구부가 형성되는 측벽을 포함하고, 상기 적어도 하나의 다른 개구부는 상기 측벽을 관통하고 표면 상에 상기 잔해를 축적하는 엘리먼트 쪽으로 상기 자유 라디칼을 방출하도록 위치된다. 상기 도관 내의 상기 자유 라디칼은 상기 적어도 하나의 다른 개구부 쪽으로 향한다. 상기 자유 라디칼은, 상기 EUV 광원으로부터 상기 엘리먼트를 제거하지 않고 상기 엘리먼트의 표면으로부터 상기 잔해를 제거하기 위하여 상기 적어도 하나의 다른 개구부를 통해 상기 엘리먼트의 표면까지 전달된다.
申请公布号 KR20160054521(A) 申请公布日期 2016.05.16
申请号 KR20167008615 申请日期 2014.08.21
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 DE DEA SILVIA;ERSHOV ALEXANDER I.;VERHOFF BRANDON W.;WILSON GREGORY J.;LAFONTAINE BRUNO
分类号 G03F7/20;H05G2/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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