| 摘要 |
하류의 이미징 광학 유닛(6)의 오브젝트 필드(3)가 배치되는 조명 필드를 조명하는 역할을 하는, EUV 투영 리소그래피용 조명 광학 유닛이 제공된다. 오브젝트 변위 방향(y)으로 변위 가능한 오브젝트(5)가 결국 오브젝트 필드(3)에 배치가능하다. 조명 광학 유닛의 패싯 미러(14)는 서로 나란히 배치된 복수의 패싯들(13)을 갖고, EUV 조명광(9)의 빔의 부분 빔들(9i)을 상기 오브젝트 필드(3)로 반사 및 중첩 안내하는 역할을 한다. 패싯 미러(14)는, 패싯 미러(14)의 각각의 패싯(13)의 위치와 패싯 미러(14)의 각각의 패싯(13)상의 부분 조명광 빔(9i)의 충돌 영역이 오브젝트 필드(3)의 필드 포인트들에 대한 조명 방향을 미리 정의하도록 배치된다. 각각의 패싯(13)상의 부분 조명광 빔(9i)의 충돌 영역의 가장 자리 윤곽이 오브젝트 필드(3)의 필드 형상을 미리 정의한다. 각각의 패싯(13)은 연속 정적 반사면(15)을 갖는다. 이러한 조명 광학 유닛에 따르면, 종래 기술과 비교하여, 감소된 제조 경비로 정반사성 반사기를 실현할 수 있다. |
