发明名称 |
晶圆级转移成型之方法与设备 |
摘要 |
法,其包含将封装结构设置在模套中,封装结构中的元件晶粒之顶部表面系接触模套中的释放膜。将模塑料经由注入埠注入模套的内部空间中,注入埠系在模套的一侧上。在注入模塑料的过程中,经由模套的第一通气孔与第二通气孔,进行通气步骤。第一通气孔具有第一流速,以及第二通气孔具有第二流速,第二流速系不同于第一流速。
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申请公布号 |
TW201618248 |
申请公布日期 |
2016.05.16 |
申请号 |
TW104119035 |
申请日期 |
2015.06.12 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
张博平;林勇志;黄见翎;刘重希;陈孟泽;郑明达;余振华 |
分类号 |
H01L23/28(2006.01);H01L21/56(2006.01) |
主分类号 |
H01L23/28(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
冯博生 |
主权项 |
一种方法,其包括:将封装结构设置在模套中,该封装结构中的元件晶粒之顶部表面系接触该模套中的释放膜;将模塑料经由注入埠注入该模套的内部空间中,该注入埠系在该模套的第一侧上;以及在注入该模塑料的过程中,经由该模套之第一通气孔与第二通气孔通气,该第一通气孔具有第一流速,以及该第二通气孔具有第二流速,该第二流速系不同于该第一流速。
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |