发明名称 基板处理装置
摘要 给用液槽对处理单元之处理液喷嘴供给处理液,并自处理液喷嘴对基板供给处理液。处理单元所使用之用过的处理液被回收,并选择性地被供给至第1及第2补充用液槽。于用过的处理液被供给至第1补充用液槽之期间,第2补充用液槽内之处理液被补充至供给用液槽,并且使第1补充用液槽内之处理液一边藉由加热部被加热一边进行循环。而于用过的处理液被供给至第2补充用液槽之期间,使第1补充用液槽内之处理液被补充至供给用液槽,并且使第2补充用液槽内之处理液一边藉由加热部被加热一边进行循环。
申请公布号 TW201618216 申请公布日期 2016.05.16
申请号 TW104130283 申请日期 2015.09.14
申请人 思可林集团股份有限公司 发明人 难波敏光
分类号 H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/67(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项 一种基板处理装置,其具备有:处理单元,其包含对基板供给处理液之处理液喷嘴;供给用液槽,其对上述处理液喷嘴供给处理液;第1及第2补充用液槽,其用以对上述供给用液槽补充处理液;处理液回收部,其将上述处理单元所使用之用过的处理液进行回收,并以选择性地对上述第1及第2补充用液槽供给上述用过的处理液之方式被连接于该第1及第2补充用液槽;处理液补充部,其系以自上述第1及第2补充用液槽选择性地对上述供给用液槽补充处理液之方式被连接于该供给用液槽;处理液循环部,其系以选择性地使上述第1补充用液槽内之处理液与上述第2补充用液槽内之处理液循环之方式连接;加热部,其加热通过上述处理液循环部之处理液;及控制部,其系于藉由上述处理液回收部所回收之上述用过的处理液被供给至上述第1补充用液槽之期间,以使上述第2补充用液槽内之处理液被补充至上述供给用液槽之方式控制上述处理液补充部,并且以使上述第1补充用液槽内之处理液一边由上述加热部加热一边循环之方式控制上述处理液循环部,而于藉由上述处理液回收部所回收之上述用过的处理液被供给至上述第2补充用液槽之期间,以使上述第1补充用液槽内之处理液被补充至上述供给用液槽之方式控制上述处理液补充部,并且以使上述第2补充用液槽内之处理液一边由上述加热部加热一边循环之方式控制上述处理液循环部。
地址 日本