发明名称 |
图案化结构中之量测用度量衡测试结构设计及量测方法 |
摘要 |
本图案的计量测量中使用的一种测试结构系加以提出。该测试结构包含主要图案及一或多个辅助图案。该主要图案系由复数个主要特征部组成,该等主要特征部沿着第一纵轴延伸且沿着第二横轴彼此间隔。该一或多个辅助图案系由复数个辅助特征部形成,该等复数个辅助特征部与至少一些该等主要特征部相关联,使得辅助特征部的尺寸系与各自的主要特征部的尺寸有预定的关系。这使得辅助特征部的尺寸从标称数值的变化,影响在预定的光学测量方法中来自测试结构之非零阶数绕射响应的改变,且此改变系指示主要图案之一或多个参数从标称数值的偏离。 |
申请公布号 |
TW201618206 |
申请公布日期 |
2016.05.16 |
申请号 |
TW104125731 |
申请日期 |
2015.08.07 |
申请人 |
诺发测量仪器股份有限公司 |
发明人 |
布拉克 吉列德;寇汉 乌迪德 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01);H01L23/544(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
主权项 |
一种在样本图案的计量测量中使用的测试结构,该测试结构包含: 由复数个主要特征部形成的一主要图案,该复数个主要特征部沿着一第一纵轴延伸且沿着一第二横轴彼此间隔;以及 定义至少一辅助图案的复数个辅助特征部,该等辅助特征部系相关于至少一些该等主要特征部,使得该辅助特征部的一尺寸系与各别的该主要特征部的一尺寸有一预定的关联,俾使该辅助特征部的该尺寸从一标称数值的变化,影响在一预定的光学测量方法中来自该测试结构之非零阶数绕射响应的改变,该改变系因此指示该主要图案之一或多个参数从标称数值的偏离。 |
地址 |
以色列 |