发明名称 辅助特征之基于规则的部署
摘要 揭示缩减用于一图案化程序中之一设计布局之一部分的一或多个图案位移误差、对比度损耗、最佳焦点移位、一Bossung曲线之倾角之若干方法,该图案化程序用于使用一微影装置而将彼部分成像至一基板上。该等方法包括使用一或多个规则基于选自由如下各者组成之一群组之一或多个参数而判定或调整一或多个辅助特征之一或多个特性:该部分中之一或多个设计特征之一或多个特性、该图案化程序之一或多个特性、该微影装置之一或多个特性,及/或选自该前述各者之一组合。
申请公布号 TW201617729 申请公布日期 2016.05.16
申请号 TW104132432 申请日期 2015.10.01
申请人 ASML荷兰公司 发明人 徐 端孚;宛普勒 克特E
分类号 G03F1/38(2012.01) 主分类号 G03F1/38(2012.01)
代理机构 代理人 林嘉兴
主权项 一种用以改良一图案化程序之电脑实施方法,该图案化程序用于使用一微影装置而将一设计布局之一部分成像至一基板上,该方法包含:获得一或多个规则,该一或多个规则经组态以基于选自由如下各者组成之一群组之一或多个参数而判定一或多个辅助特征之一或多个特性:该部分中之一或多个设计特征之一或多个特性、该图案化程序之一或多个特性、该微影装置之一或多个特性,及/或选自该前述各者之一组合;使用该一或多个规则基于该一或多个设计特征之一对边缘之间的一间隔来判定该一或多个辅助特征与该对边缘中之一者之间的一距离,使得该一或多个辅助特征相对于该对边缘不对称;及将该一或多个辅助特征置放至一图案化器件上。
地址 荷兰