基板洗浄および乾燥のための方法および装置

摘要

半導体製造における洗浄および乾燥プロセスを最適化するための方法および装置が開示される。前記最適化は、プロセシングスループットを最大化する一方で、低い欠陥数および高いデバイス生産量を維持することを試み、シミュレーションおよび実験データを使用して、前記洗浄および乾燥プロセスについての最適なプロセスパラメータを設定する。また、洗浄液およびパージガスノズルの動きの改善された方法が開示される。