发明名称 | 电浆处理装置及气体供给构件 | ||
摘要 | 明之课题在于提高沿着被处理基板径向之蚀刻速率之控制性。 | ||
申请公布号 | TW201618155 | 申请公布日期 | 2016.05.16 |
申请号 | TW104124467 | 申请日期 | 2015.07.29 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 狐塚慎一;新妻良佑;石川学 |
分类号 | H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01J37/32(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林秋琴;陈彦希;何爱文 | |
主权项 | 一种电浆处理装置,具备有:处理容器;支撑构件,设置于该处理容器之内部,支撑被处理基板;以及气体供给构件,系使得:形成有将电浆处理该被处理基板之处理气体导入该处理容器之内部的气体供给孔之第1区域、未形成该气体供给孔之第2区域、以及形成有该气体供给孔之第3区域从该被处理基板之中心侧起沿着该被处理基板之径向依序受到配置。 | ||
地址 | 日本 |