发明名称 处理系统及元件制造方法
摘要 明提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施之处理之状态与目标之处理状态不同时,亦能在无需停止制造系统全体之情形下,进行电子元件之制造之处理系统及元件制造方法。
申请公布号 TW201617746 申请公布日期 2016.05.16
申请号 TW104129099 申请日期 2015.09.03
申请人 尼康股份有限公司 发明人 鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
分类号 G03F7/24(2006.01) 主分类号 G03F7/24(2006.01)
代理机构 代理人 阎启泰;林景郁
主权项 一种处理系统,系将长条之可挠性片状基板沿长条方向依序搬送至复数个处理装置之各个,据以在该片状基板形成既定图案,其具备:第1该处理装置,依据第1设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边于该片状基板表面选择性的或一样的形成感光性薄膜;第2该处理装置,依据第2设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边对该片状基板表面之该感光性薄膜照射对应该图案之光能,以在该感光性薄膜形成对应该图案之潜像;第3该处理装置,依据第3设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边藉由反应该潜像之该感光性薄膜之选择性的显影或反应该潜像之对该感光性薄膜之选择性的镀敷,使该图案出现在该片状基板上;以及控制装置,在该第1~该第3处理装置之各个中施于该片状基板之实处理之状态中至少1个,对该第1~该第3处理装置中各个之目标之处理状态呈现处理误差的情形时,使该第1~该第3设定条件中、呈现该处理误差之该设定条件以外之其他该设定条件因应该处理误差变化。
地址 日本