发明名称 |
PROCEDE AMELIORE DE REALISATION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE MINCE |
摘要 |
Procédé pour réaliser au moins un motif dans une couche reposant sur un support comprenant des étapes consistant à : a) rendre amorphe au moins un premier bloc (131) d'une couche supérieure de matériau cristallin reposant sur une première couche de support amorphe, tandis que la structure cristalline d'un deuxième bloc (132) de la couche supérieure accolé et juxtaposé audit premier bloc (131) est conservée, b) effectuer une recristallisation partielle du premier bloc (131) en se servant d'au moins une face latérale du deuxième bloc (132) en contact avec le premier bloc comme zone de départ d'un front de recristallisation, la recristallisation partielle étant effectuée de manière à conserver une région de matériau amorphe (1311) dans le premier bloc, c) effectuer une gravure sélective du matériau amorphe de la couche supérieure vis-à-vis du matériau cristallin de la couche supérieure de manière à former au moins un premier motif dans la couche supérieure. |
申请公布号 |
FR3028350(A1) |
申请公布日期 |
2016.05.13 |
申请号 |
FR20140060849 |
申请日期 |
2014.11.10 |
申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES;STMICROELECTRONICS SA |
发明人 |
REBOH SHAY;GRENOUILLET LAURENT;MORAND YVES |
分类号 |
H01L21/02;G02B5/18;H01L21/8232 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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