| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen des optoelektronischen Bauelements, ein Verfahren zum Testen des Bauelements und das optoelektronische Bauelement, wobei die elektromagnetische Strahlung in einer Führungsebene geführt wird, wobei die elektromagnetische Strahlung im Wesentlichen in der Führungsebene ausgegeben wird, wobei seitlich zur Führungsebene die aktive Zone eine Streustrahlung abgibt, wobei eine elektrische Kontaktfläche vorgesehen ist, wobei die Kontaktfläche außerhalb der Führungsebene angeordnet ist, wobei die Kontaktfläche durch eine Oberfläche gebildet ist, die mit einer leitenden Schicht wenigstens teilweise bedeckt ist, wobei die Oberfläche geneigte Teilflächen aufweist, wobei die elektrisch leitende Schicht an wenigstens einer Teilmenge der geneigten Flächen der Kontaktfläche so dünn ausgebildet ist, dass elektromagnetische Streustrahlung über die Teilmenge der geneigten Flächen austritt. |
