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Verfahren zur Herstellung eines kohlenstoffhaltigen Schichtsystems, insbesondere zur Erhöhung der Verschleißfestigkeit von Bauteilen, mit folgenden Schritten: – Abscheiden einer Diamantschicht (20) mittels Plasmaabscheidung mit einem Mikrowellenplasma, – Abscheiden einer Übergangsschicht (22) sowie einer amorphen kohlenstoffhaltigen Schicht (21) auf der Diamantschicht (20) mittels Plasmaabscheidung mit einem kapazitiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasma, – wobei die Schichten (20, 21, 22) nacheinander unter einem Vakuum abgeschieden werden, ohne das Vakuum und das für die Schichtabscheidung erforderliche kontinuierliche oder gepulste Plasma zwischen der Abscheidung der Schichten (20, 21, 22) zu unterbrechen. |
