| 发明名称 |
コバルト含有化合物、その合成及びコバルト含有膜の堆積におけるその使用 |
| 摘要 |
コバルト含有化合物、その合成及びコバルト含有膜の堆積へのその使用を開示する。開示のコバルト含有化合物は以下の式の一方を有する：【化１】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は各々独立して水素及び直鎖、環状又は分岐炭化水素基からなる群から選択されるが、ただし（ａ）Ｒ１及びＲ２及びＲ３が炭化水素基である場合にＲ１≠Ｒ２及び／又はＲ３であり、（ｂ）Ｒ３がＨである場合にＲ１及びＲ２は炭化水素基であり、又は（ｃ）Ｒ２及びＲ３がＨである場合にＲ１はＣ２〜Ｃ４炭化水素基である）。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2016513086(A) |
申请公布日期 |
2016.05.12 |
| 申请号 |
JP20150555837 |
申请日期 |
2014.01.31 |
| 申请人 |
レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード |
发明人 |
ガティノ 論子;コ チャンヒ;ジャン−マルク ジラール;ジュリアン ガティノ |
| 分类号 |
C07F19/00;C07F7/08;C07F15/06;C23C16/18;C23C16/30;H01L21/28;H01L21/285 |
主分类号 |
C07F19/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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