| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bestimmen der Haftfestigkeit von Schichten auf Substraten, wobei eine Reihe von Anordnungen (17, 17´, 17´´, 17´´´) in der Schicht (14) ausgebildet wird, wobei jede Anordnung zumindest zwei einander zugeordnete Strukturen (13, 16; 23) umfasst, welche in der Schicht (14) ausgebildet werden, wobei mit zumindest einer der wenigstens zwei Strukturen ein Risse in der Schicht verursachender Haftungseindruck bewirkt wird und/oder der innere laterale Zusammenhalt in der Schicht lokal eliminiert oder zumindest geschwächt wird, wobei sich die einzelnen Anordnungen voneinander unterscheiden, indem für jede Anordnung ein jeweils anderer Abstand (d; D) zwischen den einander zugeordneten Strukturen (13, 16; 23) gewählt wird, und dass der größte Abstand, bei dem die zugehörige Anordnung eine Enthaftung der zwischen den einander zugeordneten Strukturen angeordneten intermediären Zone aufweist, als Maß für die Haftfestigkeit der Schicht ermittelt wird. |
