铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物

摘要

本发明涉及一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的蚀刻液组合物，对于组合物的总重量，包含：5至40%重量的过氧化氢，0.1至5%重量的蚀刻抑制剂，0.1至5%重量的螯合剂，0.1至5%重量的蚀刻添加剂，0.01至2%重量的氟化物，0.01至2%重量的双氧水稳定剂，0.1至5%重量的无机溴化合物及余量的水且使全部组合物的总重量为100%重量。所述无机溴化合物为溴无机酸盐、氮化溴、硫化溴、氟化溴、氯化溴或其混合物。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程，蚀刻液内金属离子的含量较高时，不仅可维持蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等蚀刻特性，也可作为下部膜，应用在TFT-LCD显示器电极制造等上。

主权项

一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，对于组合物的总重量，包含：5至40%重量的过氧化氢，0.1至5%重量的蚀刻抑制剂，0.1至5%重量的螯合剂，0.1至5%重量的蚀刻添加剂，0.01至2%重量的氟化物，0.01至2%重量的双氧水稳定剂，0.1至5%重量的无机溴化合物及余量的水且使全部组合物的总重量为100%重量；所述无机溴化合物为溴无机酸盐、氮化溴、硫化溴、氟化溴或氯化溴或其中两种以上的混合物。