发明名称 |
一种氮化镓基发光二极管外延结构及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种氮化镓基发光二极管外延结构及其制备方法,该外延结构自下至上依次包括:衬底、形核层、缓冲层、N型GaN层、多量子阱有源区、电子阻挡层、P型III族氮化物叠层;所述P型III族氮化物叠层由P型GaN层和P型In<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>N层依次交替层叠而成,x=0.01-0.3。本发明的P型III族氮化物叠层在LED的P型区域的能带中引入异质结,在价带处构建一个低势垒的尖锥状突起,能够聚集空穴,从而增强空穴向多量子阱有源区的注入,使得量子阱内空穴浓度提升,有利于显著提高LED的发光功率。同时,P型III族氮化物叠层的引入不会对LED的导电性能带来负面影响。 |
申请公布号 |
CN105576098A |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
CN201610100277.0 |
申请日期 |
2016.02.23 |
申请人 |
河源市众拓光电科技有限公司 |
发明人 |
李国强 |
分类号 |
H01L33/32(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/32(2010.01)I |
代理机构 |
广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 |
代理人 |
李健富 |
主权项 |
一种氮化镓基发光二极管外延结构,其特征在于,自下至上依次包括:衬底、形核层、缓冲层、N型GaN层、多量子阱有源区、电子阻挡层、P型III族氮化物叠层;所述P型III族氮化物叠层由P型GaN层和P型In<sub>x</sub>Ga<sub>1‑x</sub>N层依次交替层叠而成,其中,x=0.01‑0.3。 |
地址 |
517000 广东省河源市高新技术开发区兴业大道东边、高新一路创业服务中心三楼317室 |