基板处理设备

摘要

公开一种基板处理设备，该设备可包括：壳体，所述壳体包括上部主体和下部主体，所述上部主体和所述下部主体彼此耦合以限定处理空间，所述下部主体设置在所述上部主体的下方；支撑单元，所述支撑单元耦合到所述上部主体，所述支撑单元支撑布置在所述处理空间中的基板的边缘；流体供应单元，所述流体供应单元构造为将流体供应到所述处理空间；密封构件，所述密封构件设置在所述上部主体和所述下部主体之间，且所述密封构件与所述上部主体和所述下部主体接触，所述密封构件将所述处理空间与外部空间密封隔离；以及隔离板，所述隔离板安装在所述密封构件和所述支撑单元之间。其中，所述隔离板设置为面向所述密封构件。

主权项

一种基板处理设备，其特征在于，所述基板处理设备包括：壳体，所述壳体包括上部主体和下部主体，所述上部主体和所述下部主体彼此耦合以限定处理空间，所述下部主体设置在所述上部主体的下方；支撑单元，所述支撑单元耦合到所述上部主体，所述支撑单元支撑布置在所述处理空间中的基板的边缘；流体供应单元，所述流体供应单元构造为将流体供应到所述处理空间；密封构件，所述密封构件设置在所述上部主体和所述下部主体之间，且所述密封构件与所述上部主体和所述下部主体接触，所述密封构件将所述处理空间与外部空间密封隔离；以及隔离板，所述隔离板安装在所述密封构件和所述支撑单元之间，其中，所述隔离板设置为面向所述密封构件。