发明名称 真空辅助的狭缝模具涂覆技术
摘要 提供了使用狭缝模具来将湿膜(18)施加到基底上的系统、设备、技术和方法。在一种形式中,在该狭缝模具的至少一部分排出端周围的空气压力可以通过施加真空力来调节以控制施加到基底上的湿膜的宽度和厚度。在这种形式的一个方面,该湿膜是施加到移动的基底幅材上的窄的、连续的试剂材料条,由其可以获得多个测试元件。但是,不同的形式和应用也是可以想到的。
申请公布号 CN103492087B 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201280018387.2 申请日期 2012.04.12
申请人 霍夫曼-拉罗奇有限公司 发明人 S.布西利;A.D.约瑟夫;C.D.威尔西
分类号 B05D1/26(2006.01)I;B05C5/02(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I 主分类号 B05D1/26(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 石克虎;权陆军
主权项 一种将湿膜施加到基底上的方法,其包括:将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底的移动幅材上,以在所述基底上形成所述湿膜,所述湿膜具有相对于所述基底的宽度和厚度;在所述狭缝模具的所述排出端附近施加真空力;和在施加所述涂料的同时,实时调节所述真空力,以控制所述湿膜的所述宽度和/或厚度,其中涂覆间隙为40µm至450µm,其中,幅材相对于狭缝模具组件以35.0m/min至45.0m/min的速率移动,其中,所述方法进一步包括检测湿膜的宽度,且其中响应于确定所述宽度对应于不同于预定值的值而进行所述真空力的调节,其中预定值为4.7毫米至7.5毫米,其中,该方法进一步包括将涂料从狭缝模具排出端施加到电极图案上,以在该电极图案上形成湿膜,其中,涂料从排出端的排出速率为10.0mL/min至20.0mL/min,其中,涂覆真空为1英寸H<sub>2</sub>O即0.2491 kPa至10英寸H<sub>2</sub>O即2.4908 kPa。
地址 瑞士巴塞尔