EUV光源和曝光装置

摘要

一种EUV光源和曝光装置，其中所述EUV光源，包括：液滴阵列，所述液滴阵列包括呈环形排布的若干喷嘴，若干喷嘴适于依次向下方的环形辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，使激光束从液滴阵列上方入射并旋转扫描，依次轰击到达环形辐射位置的液滴，液滴受到激光轰击时形成等离子体，等离子体辐射极紫外光；聚光器，位于液滴阵列上方，适于旋转扫描并同时收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于环形辐射位置下方的中心焦点。本发明的EUV光源输出的极紫外光的功率增加。

主权项

一种EUV光源，其特征在于，包括：液滴阵列，所述液滴阵列包括呈环形排布的若干喷嘴，若干喷嘴适于依次向下方的环形辐射位置喷吐液滴；激光源，适于产生激光束，使激光束从液滴阵列上方入射并旋转扫描，依次轰击到达环形辐射位置的液滴，液滴受到激光轰击时形成等离子体，等离子体辐射极紫外光；聚光器，位于液滴阵列上方，适于旋转扫描并同时收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于环形辐射位置下方的中心焦点。