发明名称 |
膜沉积设备、膜沉积方法、及照明装置之制造方法 |
摘要 |
蒸镀源系配置成使得其中一种预定之膜沉积材料系沉积于基板的一个区域上;第二蒸镀源系配置成使得另一种预定之膜沉积材料系沉积于该基板的另一个区域上;以及该基板被旋转而使得不同材料系以预定之比例而被包含于该基板的膜沉积表面之上。藉由配置复数个蒸镀源于不同的位置处,可形成其中混合有复数个材料的薄膜、其中复数个材料系配置成栅格图案的薄膜、或其中复数个单分子层系堆叠于膜厚度方向上的薄膜(此状态亦可实质上被称为超级多重单分子层)。 |
申请公布号 |
TWI532861 |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
TW099108714 |
申请日期 |
2010.03.24 |
申请人 |
半导体能源研究所股份有限公司 |
发明人 |
山崎舜平 |
分类号 |
C23C14/24(2006.01);C23C14/54(2006.01);H05B33/10(2006.01);H01L51/56(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/24(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种膜沉积设备,包含:复数个蒸镀源,系分离地设置;基板固持部,系组构成固持基板,使得该基板的平面内位置不同,膜沉积材料自该复数个蒸镀源而被沉积于该等平面内位置;以及驱动部,系组构成使用该基板的中心做为旋转的中心而旋转该基板。
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地址 |
日本 |