| 摘要 |
带电粒子束描绘装置，其特征为，具备：平台，系载置涂布有阻剂之试料，且可连续移动；放出部，放出带电粒子束；孔径构件，形成有复数个开口部，在包含前述复数个开口部全体之区域受到前述带电粒子束的照射，前述带电粒子束的一部分分别通过前述复数个开口部，藉此形成多射束；复数个遮没器，对于通过前述孔径构件的复数个开口部的多射束当中分别相对应的射束进行遮没偏向；遮没孔径构件，将藉由前述复数个遮没器而偏向成为射束OFF状态之各射束加以遮蔽；照射量演算部，演算使前述阻剂解析的第1照射量，以用于前述多射束当中对应于配置有图形图样的有图样区域之射束，并演算不致使前述阻剂解析的第2照射量，以用于前述多射束当中对应于围绕前述图形图样周围而未配置图形图样的无图样区域之射束；及偏向控制部，分别控制前述复数个遮没器，使得前述多射束的各射束分别成为演算出之照射量。
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