发明名称 电路载体和制造方法及制造和运行电路装置的方法
摘要 本发明涉及一种电路载体(2)。其具有介电的绝缘载体(20)、覆层在介电的绝缘载体(20)上的上金属化层(21)以及介电涂层(3)。上金属化层(21)具有金属化部段(25),其具有朝向绝缘载体(20)的下侧(25b)、背向绝缘载体(20)的上侧(25t)以及环形封闭的侧面(25s),其在侧面界定了金属化部段(25)并且连续地在上侧(25t)和下侧(25b)之间延伸。介电涂层(3)位于侧面(25s)和上侧(25t)上,并且连续地从侧面(25s)延伸到上侧(25t)上。
申请公布号 CN105575936A 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201510708276.X 申请日期 2015.10.27
申请人 英飞凌科技股份有限公司 发明人 C·埃勒斯;T·洪格尔
分类号 H01L23/492(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/58(2006.01)I 主分类号 H01L23/492(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 郑立柱
主权项 一种电路载体,具有:介电的绝缘载体(20);上金属化层(21),所述上金属化层覆层在介电的所述绝缘载体(20)上并且具有金属化部段(25),其中,所述金属化部段(25)具有朝向所述绝缘载体(20)的下侧(25b)、背向所述绝缘载体(20)的上侧(25t)以及环形封闭的侧面(25s),所述侧面在侧面界定了所述金属化部段(25)并且连续地在所述上侧(25t)和所述下侧(25b)之间延伸;介电涂层(3),所述涂层位于所述侧面(25s)和所述上侧(25t)上,并且连续地从所述侧面(25s)延伸到所述上侧(25t)上。
地址 德国诺伊比贝尔格