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发明名称
化学機械研磨用水系分散体の製造方法
摘要
A chemical mechanical polishing aqueous dispersion includes (A) silica particles that include at least one functional group selected from the group consisting of a sulfo group or salts thereof, and (B) an acidic compound.
申请公布号
JP5915843(B2)
申请公布日期
2016.05.11
申请号
JP20110551802
申请日期
2011.01.17
申请人
JSR株式会社
发明人
竹村 彰浩;吉尾 浩平;山中 達也;金野 智久
分类号
H01L21/304;B24B37/00;B24B37/04;C09K3/14
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
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