发明名称 |
薄膜供给装置及其控制方法 |
摘要 |
本发明涉及一种薄膜供给装置,包括:压头,以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个吹气区域;所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔,通过吸气与吹气配合,使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。通过采用本发明所提供的薄膜供给装置,通过控制吸气和吹气相配合,使压头在吸附薄膜时与薄膜非接触保持,在转移薄膜过程中,压头之间不接触,压头不磨损。尤其在转移COF过程中,压头不与薄膜接触,解决了现有技术中薄膜压痕的问题,通过吸气与吹气相配合,使COF平稳地完成交接,保证了交接精度在SPEC范围内,很大程度上减少了COF抛料率,有效提高了COF产线嫁动率,有效改善了产品的良品率。 |
申请公布号 |
CN105565018A |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
CN201610015200.3 |
申请日期 |
2016.01.11 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
发明人 |
牛红林;范荣华;张金保;陈徐通;丁端端 |
分类号 |
B65H5/22(2006.01)I |
主分类号 |
B65H5/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种薄膜供给装置,其特征在于,包括:压头,以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个吹气区域;所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔,通过吸气与吹气配合,使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |