发明名称 一种稀土铥离子注入二氧化钛晶体的制备方法
摘要 一种稀土铥离子注入二氧化钛晶体的制备方法,属于二氧化钛晶体的制备方法。该二氧化钛晶体的制备方法利用离子注入技术在二氧化钛(TiO<sub>2</sub>)晶体中注入稀土铥离子,注入后样品在氧氛围中高温退火处理;首先采用40keV-350keV范围内五种不同能量,总剂量为1.25×10<sup>15</sup>离子/平方厘米的铥离子注入二氧化钛晶体表面,注入靶室温度为600℃;注入后样品在800℃~1000℃温度范围内进行退火处理;所制备的铥离子注入二氧化钛晶体可以在1420nm-1450nm波段有效实现Tm元素荧光发射。优点:采用多能量及多剂量的铥离子注入TiO<sub>2</sub>晶体在较宽深度范围内获得较均匀的铥离子浓度分布,采用600℃高温靶室注入减少了晶格损伤;制备的铥离子注入二氧化钛晶体在800℃高温退火30分钟之后,获得最佳的1420nm-1450nm波段的Tm元素荧光发射。
申请公布号 CN105568391A 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201610162480.0 申请日期 2016.03.21
申请人 中国矿业大学 发明人 贾传磊;李松
分类号 C30B31/22(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I 主分类号 C30B31/22(2006.01)I
代理机构 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人 杨晓玲
主权项 一种稀土铥离子注入二氧化钛晶体的制备方法,其特征在于,该二氧化钛晶体的制备方法包括步骤如下:(1)样品处理:样品为二氧化钛单晶,表面光学抛光,尺寸为5mm×5mm,厚度为0.5mm;样品表面先后用去离子水、酒精及丙酮做清洁处理;(2)离子注入:采用多能量的铥离子注入步骤(1)中处理后的二氧化钛晶体抛光面,注入靶室温度为600<sup>°</sup>C,注入离子的能量分别为350keV、200keV、150keV、80keV及40keV,根据能量由高到低的原则依次注入,对应的注入离子剂量依次为6.67×10<sup>14</sup>离子/平方厘米、1.44×10<sup>14</sup>离子/平方厘米、1.94×10<sup>14</sup>离子/平方厘米、1.44×10<sup>14</sup>离子/平方厘米及1.03×10<sup>14</sup>离子/平方厘米;(3)退火处理:将步骤(2)中注入后的二氧化钛晶体样品分别在管式炉氧氛围中高温退火,温度范围800<sup>°</sup>C~1000<sup>°</sup>C,退火温度阶梯为20<sup>°</sup>C,每一退火温度阶梯下的退火时间均为30分钟。
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