发明名称 半导体积体电路装置
摘要 于同一扩散层而进行相对动作之电晶体,通常系相对于扩散层作对称配置。本发明旨在提供一种半导体积体电路装置,使用一种布局,该布局舍去此一固定观念,以回避一部分与半导体积体电路装置设计相关之限制,而可减小尺寸并节约制造成本。
申请公布号 TWI533321 申请公布日期 2016.05.11
申请号 TW101113044 申请日期 2012.04.12
申请人 瑞萨电子股份有限公司 发明人 高桥弘行;山野诚也
分类号 G11C7/06(2006.01) 主分类号 G11C7/06(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项 一种半导体积体电路装置,包含:扩散层,形成于半导体基板上;第1电晶体,形成于该扩散层;第2电晶体,形成于该扩散层;及第3电晶体,形成于该扩散层;且该第1电晶体中之源极或汲极之一方连接该第2电晶体中之源极或汲极之一方,该第1电晶体中之闸极连接该第2电晶体中之闸极,该第3电晶体中之源极或汲极之一方连接该第1电晶体中之该源极或该汲极之另一方,该第3电晶体中之该源极或该汲极之另一方连接该第2电晶体中之该源极或该汲极之另一方,该第3电晶体中之闸极连接该第1电晶体中之该闸极及该第2电晶体中之该闸极;且该第1电晶体中该闸极之宽度方向,与该第2电晶体中该闸极之宽度方向不同;且该第3电晶体中之该闸极及该第1电晶体中之该闸极,其宽度方向沿其延长线配置,该第3电晶体中之闸极宽度较该第1及该第2电晶体中之闸极宽度为长。
地址 日本国东京都江东区丰洲三丁目2番24号