发明名称 压力缓冲器和衰减力产生机构
摘要 本发明公开了一种液压缓冲器(1),其包括:包含油的气缸(10);活塞部(30);阀座(41);使油根据活塞部在一个轴向上的位移从第一流体腔室(Y1)流到第二流体腔室(Y2)地在指定方向上流动的第二油道(412);使油根据活塞部在另一个轴向上的位移从第二流体腔室(Y2)流到第一流体腔室(Y1)地在指定方向上流动的第一油道(411)和反向油道(41R);打开和关闭第二油道(412)和第一油道(411)以便控制第二油道和第一油道中的油流的衰减阀(42);和在某个方向上将负荷施加到衰减阀(42)以使得衰减阀关闭第二油道和第一油道并能够改变衰减阀的负荷的负荷施加装置。
申请公布号 CN105579736A 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201480052483.8 申请日期 2014.08.29
申请人 株式会社昭和 发明人 塚原贵
分类号 F16F9/46(2006.01)I;B60G13/08(2006.01)I;B60G17/08(2006.01)I;F16F9/32(2006.01)I;F16F9/34(2006.01)I 主分类号 F16F9/46(2006.01)I
代理机构 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 代理人 吴立;邹轶鲛
主权项 一种压力缓冲器,其包括:气缸,其包含流体;限定构件,其在轴向上能移动地设置在所述气缸中并且被配置为将所述气缸中的空间限定成包含所述流体的第一流体腔室和包含所述流体的第二流体腔室;通道形成部分,其被配置为形成根据所述限定构件的位移而流动的所述流体的通道;第一通道,其形成在所述通道形成部分中并且被配置为使所述流体在指定方向上流动,该流体根据所述限定构件在一个轴向上的位移从所述第一流体腔室流到所述第二流体腔室;第二通道,其形成在所述通道形成部分中并且被配置为使所述流体在所述指定方向上流动,该流体根据所述限定构件在另一个轴向上的位移从所述第二流体腔室流到所述第一流体腔室;控制装置,其用于打开和关闭所述第一通道和所述第二通道以便控制所述第一通道和所述第二通道中的所述流体的流量;以及负荷施加装置,其用于在某个方向上将负荷施加到所述控制装置以使得所述控制装置关闭所述第一通道和所述第二通道,所述负荷施加装置能够改变所述控制装置的所述负荷。
地址 日本埼玉县