发明名称 |
成膜装置(一) |
摘要 |
明关于一种成膜装置,系提供一种可使基板面内之原料气体的供应量均匀,来使所成膜之薄膜的膜质为一定之成膜装置。该成膜装置具有:基板保持部,系于成膜容器内而于水平面内可旋转地保持基板;供应机构,系包含形成有供应孔之供应管,而透过供应孔来将原料气体供应至成膜容器内;排气机构,系包含形成有排气孔之排气管,而透过排气孔来将气体自成膜容器内排除;以及控制部,系控制基板保持部、供应机构及排气机构。供应孔与排气孔系形成为如同将基板保持部所保持之基板挟置其中般地相互对向。控制部系在使基板保持部所保持的基板旋转之状态下,藉由供应机构来供应原料气体,并藉由排气机构来将气体排除,而于基板形成薄膜般地加以控制。
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申请公布号 |
TWI532867 |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
TW100147612 |
申请日期 |
2011.12.21 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
长谷川阳成;杉田吉平;安藤厚司;福原芳树;高桥真实 |
分类号 |
C23C14/54(2006.01);C23C14/12(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/54(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林秋琴;何爱文 |
主权项 |
一种成膜装置,系藉由对保持于成膜容器内之基板供应原料气体而于该基板形成薄膜之成膜装置,其具有:基板保持部,系于该成膜容器内而于水平面内可旋转地保持基板;供应机构,系包含设置于该成膜容器内且形成有用以供应原料气体的供应孔之供应管,而透过该供应孔来将原料气体供应至该成膜容器内;排气机构,系包含设置于该成膜容器内且形成有用以将气体排除的排气孔之排气管,而透过该排气孔来将气体自该成膜容器内排除;以及控制部,系控制该基板保持部、该供应机构及该排气机构;其中该供应孔与该排气孔系形成为如同将该基板保持部所保持之基板挟置其中般地相互对向;该控制部系在使该基板保持部所保持的基板旋转之状态下,藉由该供应机构来供应原料气体,并藉由该排气机构来将气体排除,而于该基板形成薄膜般地加以控制;该成膜装置系藉由对保持于该成膜容器内之基板供应第1原料气体与第2原料气体,而于该基板形成薄膜;该供应机构系包含收容在较该供应管形成有该供
应孔之部分要更靠上游侧之部分,且形成有用以供应该第1原料气体及该第2原料气体之任一者的原料气体之开口的内侧供应管,并透过该开口将流通于该内侧供应管之该一者之原料气体汇流混合于流通在该供应管之该第1原料气体及该第2原料气体的另一者之原料气体,来将混合后之该第1原料气体及该第2原料气体透过该供应孔而供给至该成膜容器内者;该控制部系藉由预先设定流通于该供应管的该另一者之原料气体的第1流量与流通于该内侧供应管的该一者之原料气体的第2流量,而以所设定之该第1流量来使该另一者之原料气体在该供应管流通,且以所设定之该第2流量来使该一者之原料气体在该内侧供应管流通,来将该第1原料气体与该第2原料气体在以特定的混合比混合后之状态下供应至该成膜容器内般地加以控制者;该开口系形成为该开口的方向从垂直于该供应管所延伸之方向的剖面观之,而朝向相异于该供应孔的方向之方向。
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地址 |
日本 |