发明名称 |
化合物、高分子化合物、酸产生剂、光阻组成物、光阻图型之形成方法 |
摘要 |
式(1-1)所表示之化合物。
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申请公布号 |
TWI532754 |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
TW101113775 |
申请日期 |
2012.04.18 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
小室嘉崇;内海义之;川上晃也;新井雅俊 |
分类号 |
C08F220/18(2006.01);C08F220/28(2006.01);C08F220/38(2006.01);G03F7/004(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
C08F220/18(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种下述通式(1-1)所表示之化合物,
[式中,R1、R3为各自独立之直链状、支链状、或环状之脂肪族烃基;结构中含有环之脂肪族烃基;芳香族烃基;-O-、-C(=O)-O-、-C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-NH-(H可被烷基或醯基取代)、-S-、-S(=O)2-、-S(=O)2-O-、或「-AR-O(氧原子)-BR-(惟,AR及BR各自独立为可具有取代基之2价烃基)」表示之含有杂原子的2价键结基;或者为前述含有杂原子之2价键结基与直链状、支链状、或环状之脂肪族烃基;结构中含有环之脂肪族烃基;或芳香族烃基的组合,前述烃基中之氢原子的一部份或全部,亦可被氢原子以外之基或原子取代;A为直链状或支链状之脂肪族烃基,n0为0或1;R2、R4为各自独立之羟基、可具有取代基之烃基,或下述通式(1-an1)、(1-an2)或(1-an3)所表示之基,R2、R4之至少任一者为下述通式(1-an1)、(1-an2)或(1-an3)所表示之基,惟,n0为0时,R2、R4当中至少R2为式(1-an1)、(1-an2)或(1-an3)所表示之基];
[式中,Y1为单键或-SO2-,R5为可被氟原子所取代之碳数1~10之直链状或支链状之1价之烃基、碳数3~20之环状之1价之烃基,或碳数3~20之具有环状之部分结构的1价之烃基;M+为有机阳离子或金属阳离子]。
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地址 |
日本 |