发明名称 |
MEMS和CMOS集成芯片及传感器 |
摘要 |
本发明公开了一种MEMS和CMOS集成芯片及传感器,包括:第一衬底、第二衬底、至少一个连接端子和机械结构层;在第一衬底上形成有第一CMOS结构,在第二衬底上形成有第二CMOS结构,机械结构层形成有第一MEMS结构,且第一CMOS结构、第二CMOS结构和MEMS结构之间电性连接;在第一衬底中形成有至少一个第一过孔,第一过孔的一端与第一CMOS结构电性连接,且第一过孔的另一端与相应的连接端子电性连接,和/或,在第二衬底中形成有至少一个第二过孔,第二过孔的一端与第二CMOS结构电性连接,且第二过孔的另一端与相应的连接端子电性连接。上述方案有效的缩小了CMOS结构的占用集成芯片的面积,进而缩小了MEMS和CMOS集成芯片的面积。 |
申请公布号 |
CN105565250A |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
CN201410527558.5 |
申请日期 |
2014.10.09 |
申请人 |
深迪半导体(上海)有限公司 |
发明人 |
付世;郭梅寒 |
分类号 |
B81B7/02(2006.01)I;G01D5/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81B7/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
王宝筠 |
主权项 |
一种MEMS和CMOS集成芯片,其特征在于,包括:第一衬底、第二衬底、至少一个连接端子,以及,位于所述第一衬底和第二衬底之间的机械结构层;其中,在所述第一衬底朝向所述机械结构层一侧形成有第一CMOS结构,在所述第二衬底朝向所述机械结构层一侧形成有第二CMOS结构,所述机械结构层形成有第一MEMS结构,且所述第一CMOS结构、第二CMOS结构和MEMS结构之间电性连接;在所述第一衬底中形成有至少一个第一过孔,所述第一过孔的一端与所述第一CMOS结构电性连接,且所述第一过孔的另一端与相应的所述连接端子电性连接,和/或,在所述第二衬底中形成有至少一个第二过孔,所述第二过孔的一端与所述第二CMOS结构电性连接,且所述第二过孔的另一端与相应的所述连接端子电性连接。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区龙东大道3000号1号楼3楼306室 |