发明名称 |
一种LED外延片加工工艺 |
摘要 |
本发明公开一种LED外延片加工工艺,其包括如下步骤:固定:将单晶硅棒固定在加工台上;切片:将单晶硅棒切成薄硅片;退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400-550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;分档检测;研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。本发明不仅工序简单,对设备要求低,而且生产出的LED外延片残次率较低。 |
申请公布号 |
CN105576094A |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
CN201410550913.0 |
申请日期 |
2014.10.16 |
申请人 |
江苏凯旋涂装自动化工程有限公司 |
发明人 |
华源兴 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
北京品源专利代理有限公司 11332 |
代理人 |
徐鹏飞 |
主权项 |
一种LED外延片加工工艺,其特征在于,包括如下步骤:S101、固定:将单晶硅棒固定在加工台上;S102、切片:将单晶硅棒切成薄硅片;S103、退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400‑550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;S104、倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;S105、分档检测;S106、研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;S107、清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;S108、RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。 |
地址 |
214000 江苏省无锡市惠山区无锡惠山经济开发区洛社配套区 |