发明名称 一种LED外延片加工工艺
摘要 本发明公开一种LED外延片加工工艺,其包括如下步骤:固定:将单晶硅棒固定在加工台上;切片:将单晶硅棒切成薄硅片;退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400-550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;分档检测;研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。本发明不仅工序简单,对设备要求低,而且生产出的LED外延片残次率较低。
申请公布号 CN105576094A 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201410550913.0 申请日期 2014.10.16
申请人 江苏凯旋涂装自动化工程有限公司 发明人 华源兴
分类号 H01L33/02(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 徐鹏飞
主权项 一种LED外延片加工工艺,其特征在于,包括如下步骤:S101、固定:将单晶硅棒固定在加工台上;S102、切片:将单晶硅棒切成薄硅片;S103、退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400‑550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;S104、倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;S105、分档检测;S106、研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;S107、清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;S108、RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。
地址 214000 江苏省无锡市惠山区无锡惠山经济开发区洛社配套区