光刻设备、器件制造方法和相关的数据处理设备以及计算机程序产品

摘要

光刻设备通过相对于彼此以一移动次序移动衬底和图案形成装置操作，使得图案被施加到衬底上的连续部分上。衬底的每一部分通过扫描操作来形成图案，其中图案形成装置通过辐射束来扫描且同时同步地通过图案化的辐射束扫描衬底，以便施加图案到衬底上的期望部分上。在每一扫描操作期间施加场内校正，以便补偿在扫描操作期间变化的扭曲效应。场内校正包括投影系统的一个或更多的性质的校正性变化和可选地图案形成装置和/或衬底台的平面外的移动。

主权项

一种将图案从图案形成装置转移到衬底的连续部分上的光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和控制系统，用于相对于彼此和相对于所述投影系统移动所述衬底台和所述图案形成装置以实施扫描操作，所述扫描操作包括：通过辐射束扫描图案形成装置且同时同步地通过图案化的辐射束扫描衬底，以便施加图案至衬底上的期望部分，其中，所述控制系统布置成在所述扫描操作期间造成投影系统的一个或更多的性质的校正性变化，以便补偿在所述扫描操作期间变化的扭曲效应；其中将所述图案形成装置、所述投影系统和所述衬底一起看作成具有限定竖直方向的光轴的光学系统，且所述光学系统将所述图案形成装置和衬底名义上布置在各自的水平面中，所述控制系统还布置成使得在每一扫描操作期间在所述投影系统的外面的所述光学系统的一个或更多的元件的校正性移动，且其中所述校正性移动包括平面外移动，所述控制系统由此补偿场内平面内的扭曲效应，该场内平面内的扭曲效应不能仅通过图案形成装置和衬底支撑结构的平面内的移动来校正；平面外的移动意味着具有竖直分量的移动；其中所述控制系统布置成在所述扫描操作期间移动投影系统中的一个或更多的光学元件，以便在扫描操作期间在一个或更多的维度上改变投影系统的放大性质；其中所述光学元件的移动被通过所述控制系统在扫描操作期间修正用于确定投影系统中的水平扭曲的控制参数来间接地实现。