| 发明名称 | 增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组，增亮阻隔膜包括基材层，依次层设在基材层顶面上的无机镀层、聚合物层，以及设置在基材层底面的增亮层，增亮层呈连续式三角棱柱结构分布。本发明所述的增亮阻隔膜层结构简单，增亮效果好，其应用到背光模组中，背光模组中可无需棱镜膜聚光增亮。 | ||
| 申请公布号 | CN105572970A | 申请公布日期 | 2016.05.11 |
| 申请号 | CN201610032611.3 | 申请日期 | 2016.01.16 |
| 申请人 | 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 | 发明人 | 胡文玮 |
| 分类号 | G02F1/13357(2006.01)I;G02B1/14(2015.01)I | 主分类号 | G02F1/13357(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人 | 张喜安 |
| 主权项 | 一种增亮阻隔膜(33)，具有基材层(331)，其特征在于：增亮阻隔膜(33)包括依次层设在基材层(331)顶面上的无机镀层(332)、聚合物层(333)，以及设置在基材层(331)底面的增亮层(334)，所述无机镀层(332)采用SiN<sub>x</sub>层、SiO<sub>y</sub>层交互堆叠的复合式无机层，x取值1至4/3之间，y取值1.8至2之间，增亮层(334)呈连续式三角棱柱结构分布。 | ||
| 地址 | 515078 广东省汕头市濠江区汕头保税区万顺工业园 | ||