发明名称 |
一种敏感修复型卸妆膏及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种敏感修复型卸妆膏,按重量百分比计,包括如下组分的原料制成:油脂20-55%,表面活性剂10-35%,固态蜡2-30%,黄岑提取物1-3%,芍药提取物2-6%,葡萄籽提取物4-10%,蓝蓟精油3-8%,羟苯甲酯或苯氧乙醇或咪唑烷基脲0.1-0.2%,透明质酸1-5%,余量为去离子水;本发明原料成分中添加黄岑提取物、芍药提取物、葡萄籽提取物、蓝蓟精油四种成分,四种成分具有较好的抗敏、抗氧化、抗菌以及细胞修复,维持皮肤结构的功能,另外本发明为含水体系,对比全油体系来说,肤感好、不粘腻,十分清爽,对水溶性污垢有着不错的清洁效果,使用后面部无紧绷,且保护肌肤,同时本发明还提供了此卸妆膏的制备方法。 |
申请公布号 |
CN105560131A |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
CN201610151121.5 |
申请日期 |
2016.03.16 |
申请人 |
广州丹奇日用化工厂有限公司 |
发明人 |
杨业 |
分类号 |
A61K8/97(2006.01)I;A61K8/92(2006.01)I;A61K8/73(2006.01)I;A61Q1/14(2006.01)I;A61Q19/00(2006.01)I;A61Q17/00(2006.01)I |
主分类号 |
A61K8/97(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种敏感修复型卸妆膏,其特征在于,按重量百分比计,包括如下组分的原料制成:油脂20‑55%,表面活性剂10‑35%,固态蜡2‑30%,黄岑提取物1‑3%,芍药提取物2‑6%,葡萄籽提取物4‑10%,蓝蓟精油3‑8%,羟苯甲酯或苯氧乙醇或咪唑烷基脲0.1‑0.2%,透明质酸1‑5%,余量为去离子水。 |
地址 |
510370 广东省广州市荔湾区龙溪大道蟠龙工业区内二友工业厂房一幢6层 |