发明名称 记忆体结构及形成记忆体结构的方法
摘要 本发明揭露一种记忆体结构及形成记忆体结构的方法。记忆体结构包含一控制单元以及一记忆单元,记忆单元电性连接至控制单元。控制单元包含一源极与一漏极;一主动层,接触源极的一部分及漏极的一部分;一栅极层;以及一栅极绝缘层,位于主动层与栅极层之间。记忆单元包含一底电极层;一顶电极层;以及一电阻切换层,电阻切换层位于底电极层以及顶电极层之间,其中电阻切换层与主动层的材质为氧化铝锌锡。本发明的功效在于,本发明主动层与电阻切换层的材质均为氧化铝锌锡,能在低温下制备并达到系统整合与减少成本等目的。
申请公布号 CN105575991A 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201410549666.2 申请日期 2014.10.16
申请人 财团法人交大思源基金会 发明人 刘柏村;范扬顺;陈钧罄
分类号 H01L27/24(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I 主分类号 H01L27/24(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国
主权项 一种记忆体结构,其特征在于,包含一控制单元以及一记忆单元,该记忆单元电性连接该控制单元,其中:该控制单元包含:一源极与一漏极;一主动层,接触该源极的一部分及该漏极的一部分;一栅极层;以及一栅极绝缘层,位于该主动层与该栅极层之间;该记忆单元包含:一底电极层;一顶电极层;以及一电阻切换层,该电阻切换层位于该底电极层以及该顶电极层之间,其中该电阻切换层与该主动层的材质为氧化铝锌锡。
地址 中国台湾新竹市大学路1001号