发明名称 |
一种高透光倒装式LED芯片结构 |
摘要 |
本实用新型涉及一种高透光倒装式LED芯片结构,包括蓝宝石衬底,所述蓝宝石衬底表面自下而上依次生长的外延N型GaN层、量子阱层和外延P型GaN层,其创新点在于:所述外延P型GaN层的上表面自下而上依次蒸镀有ITO导电层和银反射镜层,所述银反射镜层上设有P电极,外延N型GaN层上设有N电极;且所述ITO导电层上刻蚀有若干排均匀分布且贯穿整个ITO导电层的透光孔,所述相邻排的透光孔间隔分布构成多个等边三角形阵列。本实用新型的优点在于:本实用新型中,通过在ITO导电层上设置贯穿整个ITO导电层的透光孔,提高该层的透光率,而透光孔的等边三角形阵列分布则确保不影响通过该ITO导电层的电流分布,避免提高透光率后损失其他性能。 |
申请公布号 |
CN205231103U |
申请公布日期 |
2016.05.11 |
申请号 |
CN201520919809.4 |
申请日期 |
2015.11.18 |
申请人 |
海迪科(南通)光电科技有限公司 |
发明人 |
夏健;张伟;刘小波;孙恒俊;孙智江;贾辰宇 |
分类号 |
H01L33/48(2010.01)I;H01L33/60(2010.01)I;H01L33/58(2010.01)I;H01L33/62(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/48(2010.01)I |
代理机构 |
北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 |
代理人 |
滑春生 |
主权项 |
一种高透光倒装式LED芯片结构,包括蓝宝石衬底,所述蓝宝石衬底表面自下而上依次生长外延N型GaN层、量子阱层和外延P型GaN层,其特征在于:所述外延P型GaN层的上表面自下而上依次蒸镀有ITO导电层和银反射镜层,所述银反射镜层上设有P电极,外延N型GaN层上设有N电极;且所述ITO导电层上刻蚀有若干排均匀分布且贯穿整个ITO导电层的透光孔,所述相邻排的透光孔间隔分布构成多个等边三角形阵列。 |
地址 |
226500 江苏省南通市如皋市桃园镇育华村34组 |